氧化铈抛光皮现货供应 光学加工耗材

氧化铈抛光皮现货供应 光学加工耗材

会员 会员:hy244179 更新于:2025/12/22 共:0 位观众

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详细说明:

氧化铈抛光皮 精密抛光专用 高耐磨光学级抛光耗材

一、产品核心优势:稳定耐用,性价比拉满

二、精准参数:多规格适配不同场景

参数类别

具体规格

说明

核心成分

聚氨酯基材 + 99.9%高纯度氧化铈磨料(CeO₂主含量>99.9%)

采用喷雾干燥工艺解聚,磨粒粒径D50控制在0.8-1.2μm,无硬团聚颗粒,杜绝工件划伤

硬度选择

HA70±5 / HA80±5 / HA90±5

软硬度按需匹配,硬规格适用于粗抛去痕,软规格适用于精抛提亮

尺寸与凹槽

支持定制任意尺寸及凹槽设计

完美适配各类抛光设备,精准贴合2.5D/3D曲面工件弧度

适用pH范围

6.0-8.0(中性至弱碱性)

兼容常规抛光液,不易发生化学腐蚀变质

三、全场景覆盖:从工业量产到精细加工

核心适用材质:适配软质火石玻璃、熔融石英、蓝宝石晶体、硅晶圆等硬脆材料,尤其适用于光学玻璃、手机3D盖板、ITO导电玻璃、TFT液晶玻璃等高精度抛光需求。

工业量产场景

 3C产品2.5D/3D玻璃前后盖板抛光 、汽车玻璃、后视镜划痕修复、光学仪器镜片批量加工、半导体硅片背损伤去除

精细加工场景

 水晶工艺品镜面抛光、钟表镜片精密处理、激光陀螺窗口抛光、高功率激光器镜片加工

四、使用与维护:延长寿命更高效

  1. 预处理:使用前用去离子水轻轻冲洗表面,去除浮尘,避免抛光时造成二次划伤。

  2. 工艺匹配:根据工件材质选择对应硬度,粗抛建议使用HA80±5规格,压力控制在0.1-0.3MPa;精抛选用HA70±5规格,压力降至0.05-0.1MPa,转速以100-300r/min为宜。

  3. 清洁保养:使用后立即用流动清水冲洗,去除残留抛光液和碎屑,若有顽固残留可配合中性清洁剂轻柔擦拭,避免使用酸性或强碱性试剂。

  4. 存储条件:置于干燥通风环境,避免阳光直射和潮湿环境,防止基材老化变质。

五、品质保障与服务


欢迎来电免费索取样板或莅临指导,谢谢!

1   8   3   1   8   3   1   8   3   0   6      陈   志   鹏


"CMPPAD"本著:“诚信、务实、专业、创新”的企业宗旨,竭诚与广大客户共发展,共创美好未来。


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